インダストリアルクリーンルーム(ICR)

半導体加工製造 クリンルーム設備工事 クラス100 (装置ユーティリティ関係設備施工も)

半導体加工製造 クリンルーム設備工事 クラス100 (装置ユーティリティ関係設備施工も)

施工データ 施工時期:2021年12月より施工期間:6ヶ月施工場所:東京都広さ:700㎡クラス:100用途:クリーンルーム設備工事 ダウンフロー方式にてクラス100のクリーンルームを施工し、装置ユーティリティ関係の設備も…