半導体加工製造 クリンルーム設備工事 クラス100 （装置ユーティリティ関係設備施工も）

半導体加工製造 クリンルーム設備工事 クラス100 （装置ユーティリティ関係設備施工も）

施工データ

施工時期：2021年12月より
施工期間：6ヶ月
施工場所：東京都
広さ：700㎡
クラス：100
用途：クリーンルーム設備工事

ダウンフロー方式にてクラス100のクリーンルームを施工し、装置ユーティリティ関係の設備も施工しました。
　詳細はN３・圧空・上水・純水配管・酸アルカリ関係排気ダクト・スクラバー設置・廃液タンクなど。
　また、装置電源の仕様電力容量設計・キューピクル設置・各種分電盤設置まで

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