半導体加工製造 クリンルーム設備工事 クラス100 (装置ユーティリティ関係設備施工も)

半導体加工製造 クリンルーム設備工事 クラス100 (装置ユーティリティ関係設備施工も)

施工データ

施工時期:2021年12月より
施工期間:6ヶ月
施工場所:東京都
広さ:700㎡
クラス:100
用途:クリーンルーム設備工事

ダウンフロー方式にてクラス100のクリーンルームを施工し、装置ユーティリティ関係の設備も施工しました。
 詳細はN3・圧空・上水・純水配管・酸アルカリ関係排気ダクト・スクラバー設置・廃液タンクなど。
 また、装置電源の仕様電力容量設計・キューピクル設置・各種分電盤設置まで

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