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半導体機械製造 クリーンルーム化空調工事 クラス1,000
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半導体加工製造 クリーンルーム解体工事 クラス1,000
施工データ 施工時期：2023年２月 施工期間：１ヶ月 施工場所：神奈川県 広さ：450㎡ クラス：1,000 用途：半導体加工製造 クリーンルーム、オフィス、屋外全般の解体及び復旧工事です。 解体前 作業状況 復旧後
